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纳米光源照明开创新型大视场非标记纳米显微成像

时间:2017年03月10日 访问次数:1277

光学成像是人们获取信息的最重要手段之一,尤其是利用光学显微术,人们可以观察到和了解到微观世界的奥秘。1873年,德国科学家Abbe提出光学成像系统的“衍射极限”,任何光学显微镜都存在一个分辨率极限,由光波长以及透镜的数值孔径决定。光学显微成像系统由于“衍射极限”的存在,可见光波段无法实现200纳米以下的高分辨成像。为此人们不断努力,研究发展超分辨成像技术,希望突破衍射极限,获得更高的分辨率。2014年从事荧光超分辨光学显微术的三位科学家获得了诺贝尔化学奖,他们开启了人类利用荧光标记方法实现超分辨显微的大门。尽管人类的光学显微已进入超分辨时代,然而目前的超分辨显微术遇到了需要借助荧光标记、成像速度慢、样品选择性强、应用对象受限等瓶颈。因此探索并发展无需标记、视场大、结构与相位均能快速成像的新型超分辨光学成像系统成为人们关注的热点。

浙江大学现代光学仪器国家重点实验室刘旭、杨青团队利用发光纳米线环形照明,实现了高效的宽场、远场、实时非标记二维纳米可见光波段显微成像。这种成像方法已经在集成芯片、蓝光DVD、3T3 l1癌细胞等多类亚波长样品上得到验证,展示了其普适性强、方便使用的优点。所获得的视场达1000平方微米,比其它远场非标记远场超分辨成像技术提升一个数量级以上。这种新型的非标记显微术,可以很方便地集成在传统显微镜上,为在纳米尺度上观测细胞活动提供了可能性,在生物医学、集成芯片和纳米材料等领域具有重要的应用前景。

2017217日,该技术最新研究成果发表在世界著名的物理学顶级学术期刊《物理评论快报Phys. Rev. Lett. 118, 076101, 2017)。


原文链接:http://journals.aps.org/prl/abstract/10.1103/PhysRevLett.118.076101


基于一维纳米发光材料的新型纳米成像技术原理及效果.jpg

基于一维纳米发光材料的新型纳米成像技术原理及效果





光电学院超分辨光学成像课题组

2017.3.10







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